1月3日，应城市环境研究所青年创新促进会和单文坡研究组邀请，华中科技大学单斌教授来宁波站交流，并做题为《原子精准的催化结构设计与制备》学术报告。
单斌教授深入浅出地为我们讲解了原子层沉积技术（ALD）的原理、进展与现状。原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法（技术）。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。由于气相物质在基体材料的表面发生化学吸附并成键，因而该技术可以构造特殊催化结构。进一步，单斌教授分享了ALD技术在催化领域中的应用，包括通过ALD技术在贵金属不同晶面上选择性沉积前驱体、精准调控助剂激活贵金属颗粒、构造纳米阱提升活性及稳定性等；结构设计精巧的催化剂在CO氧化等反应中取得了优异的催化活性。
报告结束后，参会师生与单斌教授就ALD技术精确调控表界面位点、产业化情况等内容展开了热烈的讨论与交流。
（文：大气污染控制研究组；图：大气污染控制研究组）
